英特尔10nm光刻机，第二代光刻机

8月6日消息，英特尔CEO在近日的财报电话会议上宣布，英特尔已成功获得价值3.83亿美元的全球NA第二高的EUV（极紫外光刻机）。

高NA EUV光刻设备是目前国际上最先进的芯片制造设备之一，其分辨率达到8纳米，可以显着提高芯片的晶体管密度和性能，并且是实现量产的必备武器。 2nm以下先进工艺生产。

Pat Gelsinger 表示，第二台高NA 机器很快将安装在英特尔位于美国俄勒冈州的晶圆厂，预计将支持该公司生产新一代更强大的计算机芯片。

在此之前，英特尔于去年12月接收了全球首台高NA EUV光刻设备，并在其俄勒冈晶圆厂完成组装。

第二台设备的引进将进一步增强英特尔在高端芯片制造领域的竞争力，该公司有望在2025年超越台积电等竞争对手。

高NA EUV光刻设备的推出是英特尔“IDM 2.0”战略的一部分，旨在通过技术创新和工艺改进重建英特尔在全球半导体行业的领导地位。

英特尔计划到2027年将高NA EUV技术投入商业化生产，并到2030年实现代工业务的盈亏平衡。